Главная
О компании
Программное обеспечение
Услуги
События
Контакты



Моделирование роста кристаллов из расплава

В ООО Софт-Импакт накоплен богатый опыт по оптимизации оборудования и технологических параметров при выращивании объемных кристаллов из расплава по методам Чохральского, Бриджмена-Стокбаргера, Киропулоса и зонной плавки.

Modeling of SiC Growth
Рис. 1. Пример расчета теплообмена в установке для выращивания кристаллов кремния диаметром 400 мм.

Спектр решаемых задач включает в себя:

  • расчеты теплообмена в ростовых узлах с оптимизацией общей геометрии, тепловых экранов и параметров нагревателей;
  • анализ термоупругих напряжений и возникновени дислокаций в кристалле с расчетом формирования фронта кристаллизации;
  • редсказание характеристик дефектов (поры, преципитаты кислорода) в кристаллах кремния;
  • расчеты транспорта и вхождения в кристалл примесей, содержащихся в газе и расплаве;
  • анализ гидродинамики газа и расплава с применением моделей турбулентности и прямого численного моделировани трехмерных нестационарных течений;
SiC Crystal
Рис. 2. Пример моделирования эффекта магнитного поля при росте кристаллов кремния диаметром 400 мм

Используемые модели прошли верификацию для кристаллов кремния Si, арсенида галлия GaAs, фосфида индия InP, сапфира, германия и других полупроводниковых и оптических материалов.